桌面型小型蒸發鍍膜儀，可提供*大100A的鍍膜電流，最大蒸發溫度可達1800℃，能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍及部分非金屬蒸鍍。真空腔體采用不不銹鋼制作，出廠經過除氣處理，配合分子泵組可達到5x10-5Pa極限真空，能夠滿足絕大部分材料蒸發所需的真空環境。真空腔體采用前開門開啟方式，便于取放樣，腔體上配置有帶擋板的適應觀察窗，用于觀察鍍膜過程，擋板則可以有效防止觀察窗被膜料污染