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磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優點，鍍膜速率高，樣品溫升低，是...

桌面型小型蒸發鍍膜儀，可提供*大100A的鍍膜電流，最大蒸發溫度可達1800℃，...

靜電紡絲機能夠提供連續穩定流量的液體，且供液速度可調能夠滿足不同類型紡絲溶液的需...

晶體生長爐配有2英寸的石英管，精密提拉機。用于在氣氛保護環境下或密封石英坩堝環境...

桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備...

設計用于在加熱或熔化過程中攪拌樣品以獲得更均勻的反應。搖擺臺可自動設置搖擺頻率和...

熱蒸發鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發、氣態粒子的輸運以及在基底上的沉積成膜。...

真空快速熱壓爐將真空/氣氛、熱壓成型、高溫燒結結合在一起，適用于粉末冶金、功能陶...

下置四靶磁控鍍膜儀為桌面型靶下置型磁控鍍膜儀。設備經過小型化設計，將設備外形限制...

本設備是一款真空快速熱壓爐(VRHP)，專為真空(或氣氛保護)環境下通過快速熱壓...

PLD脈沖激光濺射沉積設備系列設備主要用于生長光學晶體、鐵電體、鐵磁體、超導體和...

三溫區真空管式爐（直徑100mm，長度1400mm）主要用于稀土制備、電子照明、...